（2）需要定期對(duì)鈀缸進(jìn)行速率監(jiān)控，利用原子吸收的分析方法檢測(cè)鈀缸中各物質(zhì)濃度是否處于正常狀態(tài)下；

（3）必須對(duì)經(jīng)過(guò)鎳缸的產(chǎn)品進(jìn)行監(jiān)控，發(fā)生漏鍍的產(chǎn)品不可以進(jìn)入鈀缸；

（4）嚴(yán)格控制鈀缸溫度，過(guò)高的溫度會(huì)導(dǎo)致鈀的異常析出；

（5）鈀缸必須每周進(jìn)行倒缸并硝槽清洗，以防止鈀的析出。

3.金缸的管控

化學(xué)浸金屬于置換反應(yīng)，當(dāng)金厚達(dá)到一定程度時(shí)反應(yīng)自然終止，普通的化學(xué)浸金易于控制，但對(duì)于金厚要求較高的產(chǎn)品，通過(guò)置換反應(yīng)得到的金鍍層已經(jīng)無(wú)法滿(mǎn)足厚度的要求，必須使用還原性質(zhì)的鍍液進(jìn)行處理才能滿(mǎn)足客戶(hù)要求。與化學(xué)鈀一樣，屬于還原體系的鍍液，較難控制，需要嚴(yán)格的管控和維護(hù)才能確保其相對(duì)穩(wěn)定性，可以通過(guò)控制絡(luò)合劑和還原劑的濃度、溶液體系的溫度、合理使用自動(dòng)補(bǔ)加使溶液體系更加穩(wěn)定：

（1）金缸長(zhǎng)時(shí)間加熱會(huì)導(dǎo)致還原劑的熱消耗，需要適當(dāng)補(bǔ)加，但還原劑的補(bǔ)加需少量多次進(jìn)行，還原劑的過(guò)量補(bǔ)加會(huì)導(dǎo)致金的析出；

（2）金缸過(guò)高的溫度會(huì)導(dǎo)致金的析出，需要嚴(yán)格監(jiān)制好金缸溫度；